氮化鈦(TIN)通常有兩種方式獲得。
氮化鈦(TIN)通常有兩種方式獲得。
輝納-氮化鈦(TiN)涂層的特性
薄膜厚度:<=8um
摩擦系數(shù):<0.4
薄膜硬度:=<25GPa (~HV2500)
最高使用溫度:600°C
薄膜顏色: 金黃色
工藝溫度: 180~400°C
涂層結(jié)構(gòu): 納米單層/復(fù)合
氮化鈦(TIN)通常有兩種方式獲得,第一種為磁控濺射方式獲得,第二種為陰極電弧方式獲得,兩種方式各有優(yōu)缺點,磁控濺射方式獲得的涂層硬度較低,但是顆粒細膩,表面光潔度好。印記電弧方式獲得的涂層,表面硬度高但顆粒度大,而且表面缺陷比較多,通常需要進行鍍后拋光處理。