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設備功率

50(千瓦),380(伏)三相

壓縮空氣和冷卻水

0.46~0.60兆帕，1.5立方米/每分鐘

靶源冷卻25°C，腔體冷卻35°C

真空抽氣系統(tǒng)

機械選片泵1臺

分子泵1臺

200立方米/小時

2500升/秒

無負載系統(tǒng)極限真空 1.0x10-4帕

真空測量系統(tǒng)

低真空/電阻規(guī)/2路

高真空/離子規(guī)/1路

磁控陰極靶和電源（電源可根據(jù)客戶需求自選）

平面增強型磁控陰極弧3套

陰極弧電源3套

偏壓電源1套

陰極弧靶的數(shù)量最多4個

靶源尺寸根據(jù)客戶要求自選

直流弧電源

高壓直流脈沖電源

靶電流<150安倍

有效工作電壓25伏

有效工作電流180安倍

10千瓦，占空比0~90%，頻率40千赫茲

工藝氣體

獨立3路，質(zhì)量流量控制器MFC（可根據(jù)客戶需要增加獨立氣路）

工件轉(zhuǎn)架

2套、帶8個直徑120毫米可獨立轉(zhuǎn)動的行星轉(zhuǎn)塔，可連同被鍍工件整體裝卸，轉(zhuǎn)速~10轉(zhuǎn)分鐘，轉(zhuǎn)架尺寸直徑520毫米，承載重量350公斤

鍍膜機控制系統(tǒng)

PLC控制系統(tǒng)+工業(yè)PC/PLC

系統(tǒng)具備全自動，手動和維護3種操作模式

所以所有運行參數(shù)記錄于電腦之中供分析查閱

開放式軟件界面，用戶可自行開發(fā)工藝

涂層工藝

隨機附送4套成熟類金剛石DLC涂層工藝和輔助工藝